PECVD加熱用赤外線エミッター

製造現場において、PECVDチャンバー内の温度分布こそが、成膜プロセスの結果を決定づける要素です。もしエミッターの動作が不安定になれば、すぐにそれが分かります。フィルムの応力や厚さの均一性、粒子数なども同様に影響を受けます。私たちは、現代の半導体製造に求められる厳しい熱管理要件を満たすために...