在光刻生产环节中，人们很快就能掌握其中的要领：在光阻烘烤过程中，哪怕只有半度的温度偏差，都足以导致关键尺寸发生变化，从而使大量产品变为废品。因此，我们设计了高精度温度控制器，以确保在软烘烤和硬烘烤过程中，晶圆表面的温度始终保持在±0.1°C的范围内。
本质上，最重要的就是控制精度、重复性以及保持生产环境的清洁度。
该加热器采用短波红外线技术，因此能够快速且精确地调节温度，从而稳定晶圆的温度。石英组件以及符合洁净室标准的结构设计则确保了没有颗粒产生，这正是1级到100级洁净环境所要求的。集成式的传感器与控制系统可以实现实时反馈，从而确保每次光阻处理时的参数都保持一致——即便生产线电压有所波动也是如此。
温度是直接控制光刻过程中溶剂去除及聚合物交联程度的关键因素。
我们的加热器首先通过软烘烤来去除残留物和杂质，然后再进行精确的硬烘烤，以提高光阻的附着力。这样一来，就能更好地控制晶圆的尺寸精度，同时减少返工次数。此外，由于系统能迅速达到设定温度并且几乎不会超出设定范围，因此能源消耗也会降低。
在确定相关参数之前，还有几点需要注意的。安装时需要独立的电源供应以及良好的隔热措施，以避免影响相邻工位的工作。此外，还需要一些时间来调整光阻处理参数。该设备可以与大多数轨道接口配合使用，但如果要将其集成到较旧的平台上，则可能需要定制的机械适配器。