생산 라인에서는 소프트 베이크나 하드 베이크 과정 중에 온도가 0.1°C만 변동해도 웨이퍼의 품질에 악영향을 미쳐 이물질이 생기고 수율도 저하됩니다. 일반적인 건조기들은 열 변화로 인해 발생하는 웨이퍼 간 온도 차이나 입자 형성 문제를 해결하기 어렵습니다. 우리는 이러한 불확실성을 없애기 위해 이러한 웨이퍼 건조기를 개발했습니다.
핵심적인 요소들 우리는 석영으로 분리된 챔버 내에서 단파 적외선 방출기를 사용하여 웨이퍼의 온도를 ±0.1°C 이내로 유지합니다. 이 방식을 통해 입자가 생성되지 않습니다. 이 시스템은 클래스 1–100 등급의 청정실에서 작동하며, 실시간 모니터링을 통해 입자가 전혀 생성되지 않는다는 것을 확인할 수 있습니다. 포토레지스트의 베이킹 프로파일도 일관성을 유지하며, 설정된 온도는 ±0.2°C 이내입니다. 따라서 중요한 치수와 웨이퍼의 형태도 안정적으로 유지됩니다. 히터 구조 덕분에 기판의 온도가 주변 환경의 영향을 받지 않아, 모든 배치별로 동일한 열 처리 조건이 유지됩니다.
리소그래피 공정에 적합한 이유 리소그래피 및 포토레지스트 처리 과정에서는 건조기가 직접 선의 굵기, 접착력, 그리고 남아있는 용매의 양을 결정합니다. 높은 온도 일관성은 재작업과 재검사를 줄여줍니다. 청정실과의 호환성과 입자 생성 방지 기능 덕분에 결함이 줄어들고, 계획하지 않은 정지 상태도 없어 생산 라인이 계속 가동됩니다. 에너지 사용량도 줄어듭니다. 그 결과, 공정이 안정적으로 유지되고, 사이클 타임도 예측 가능해집니다.
설치 시 필요한 사항 이 장비는 전용의 필터링된 전력 공급원과 질소 퍼지 시스템이 필요합니다. 이를 통해 최대 온도에서도 입자가 생성되지 않도록 합니다. 표준 레일에 설치하는 것은 간단하지만, 기계적 간섭이 없도록 기존의 처리 장비와 열 질량 및 커넥터 방향을 맞춰야 합니다. 베이킹 프로세스를 설정한 후에는 교대 근무나 웨이퍼 배치에 관계없이 일관된 결과가 나옵니다.