実際、触媒の乾燥処理というのは、単なる形式的な工程ではありません。これは熱管理が非常に重要なプロセスであり、その不備が原因で収率が低下することもあります。対流式オーブンでは温度が均一にならず、ホットプレートを使用する場合でもウェハ上に温度差が生じます。これにより、触媒の均一な塗布が不可能になり、ピンホールや欠陥が発生し、スタックボンディング時に問題となります。
私たちは、このような課題に対応するために、NIR光源を用いた乾燥装置を開発しました。この装置は、フォトレジストの焼成やリソグラフィーで用いられるのと同じ熱管理技術を駆使して設計されています。
日々必要なのは、信頼性の高い制御機能です。この装置は、近赤外線を利用して迅速に所定の温度に到達し、基板に触れることなく、再現性の高い温度プロファイルを実現します。ウェハ全体の温度ムラは±0.1℃以内に抑えられ、連続稼働時でも設定値が安定します。
また、クラス1からクラス100までのクリーンルーム環境にも適しており、運転中に粒子が発生しないように、材料やシール部品も慎重に選ばれています。そして、シフトを重ねても、同じ温度プロファイル、同じ動作パフォーマンスが保たれます。
実際に効果的な理由は、乾燥工程におけるばらつきを排除できるからです。迅速に所定の温度に到達し、触媒の形状も均一になり、再作業の回数も減少します。また、ランプが対象物を加熱するため、電力消費も削減されます。信頼性も高く、24時間365日の稼働に耐えられ、メンテナンスも計画的に行えます。
実用上の注意点として、NIR乾燥は直線的な光の照射方式なので、パターン部分に影ができないように、装置の幾何形状や反射板の位置を正確に調整する必要があります。当社では、サーモカップルによる温度測定データや強度プロファイル、クリーンルーム対応の取り付けケースなど、検証用のキットも提供しています。これにより、初回の運転結果も仕様書で示されている数値に達します。