Di fasiliti pengeluaran, perubahan suhu semasa proses pembakaran bahan fotoresist bukanlah sekadar teori semata-mata; ia merupakan masalah yang benar-benar berlaku dan mempengaruhi kualiti produk yang dihasilkan. Apabila suhu di kawasan tersebut tidak dapat dikawal pada tahap ±0.1°C, dimensi komponen akan berubah, dan masalah yang sama akan berulang-ulang setiap hari. Kami telah mencipta modul pemanas untuk sistem pengudaraan di fasiliti ini, agar perubahan suhu dapat dikawal dengan baik, sehingga proses pembakaran bahan fotoresist dapat dilakukan secara konsisten.
Apa yang penting dari segi teknikalnya
Modul ini menggunakan haba inframerah dekat (NIR) untuk mencipta medan haba yang seragam pada skala sub-milimeter. Dengan cara ini, suhu yang dialami oleh wafer akan tetap sama setiap kali proses pembakaran dilakukan. Dalam praktiknya, ini bermakna proses pembakaran dapat dilakukan dengan lebih stabil, dan tingkah laku bahan fotoresist akan tetap konsisten dari satu batch ke batch yang lain. Reka bentuk modul ini juga sesuai dengan standard bilik bersih kelas 1–100, kerana ia mampu mengurangkan penjanaan zarah-zarah kecil hingga hampir sifar. Selain itu, modul ini direka untuk memenuhi keperluan termal dalam proses litografi moden.
Apa yang perlu anda ketahui terlebih dahulu
Proses pemasangan memerlukan penyesuaian pola aliran udara dan geometri sistem pengudaraan yang sesuai. Jika ada ketidaksesuaian, medan suhu akan berubah, dan keseragaman suhu tidak akan tercapai. Proses penalaan kuasa NIR juga diperlukan agar suhu dapat dikawal dengan baik. Setelah disesuaikan dengan betul, modul ini akan memberikan prestasi yang stabil. Namun, semuanya bergantung pada penyesuaian mekanikal yang tepat sebelumnya.