
Dalam proses litografi, seseorang boleh belajar dengan cepat: perubahan suhu sebanyak setengah darjah semasa proses pemanasan bahan fotoresist sudah cukup untuk mengubah dimensi komponen-komponen penting dalam wafer, sehingga menyebabkan bahan tersebut menjadi tidak berguna. Kami telah mencipta pemanas berketepatan tinggi untuk mencegah hal ini berlaku—dengan memastikan suhu wafer kekal stabil pada tahap ±0.1°C, sama ada semasa proses pemanasan lembut mahupun keras.
Apa yang penting ialah kawalan yang tepat, kebolehulangan proses, serta kebersihan alat yang digunakan. Pemanas ini menggunakan gelombang inframerah pendek, jadi ia dapat bertindak balas dengan cepat dan tepat untuk menstabilkan suhu wafer. Komponen-komponen kuarsa serta reka bentuk yang sesuai dengan keperluan bilik bersih membantu mengelakkan pembentukan zarah-zarah yang tidak diinginkan, yang sangat penting dalam persekitaran kelas 1–100. Sistem pengesanan dan kawalan yang terintegrasi membolehkan tetapan suhu tetap konsisten dari satu kumpulan bahan ke kumpulan bahan yang lain, walaupun voltan sistem berubah.
Suhu merupakan faktor utama yang mengawal proses penghapusan pelarut dan proses pengikatan polimer dalam litografi. Pemanas kami membantu mengurangkan pembentukan lapisan tidak diinginkan semasa proses pemanasan lembut, kemudian melakukan proses pemanasan keras untuk meningkatkan daya melekat bahan fotoresist sebelum proses etching. Hasilnya ialah kawalan dimensi wafer yang lebih baik, serta pengurangan keperluan untuk membaiki bahan yang rosak. Penggunaan tenaga juga berkurangan, kerana sistem dapat mencapai suhu yang ditetapkan dengan cepat dan mengekalkannya tanpa berlaku variasi yang berlebihan.
Beberapa perkara praktikal yang perlu dipertimbangkan sebelum memilih peralatan ini. Pemasangannya memerlukan bekalan kuasa yang khusus dan terpisah, serta pengasingan haba yang efektif agar tidak mengganggu stesen-stesen lain. Anda perlu meluangkan sedikit masa untuk menyesuaikan tetapan peralatan tersebut mengikut keperluan bahan fotoresist yang digunakan. Peranti ini boleh digunakan bersama kebanyakan antaramuka, tetapi jika anda ingin menggunakannya bersama platform lama, mungkin diperlukan adapter mekanikal khusus.