Dalam proses litografi, keseragaman suhu semasa proses pembakaran adalah sangat penting. Perbezaan suhu sebanyak 1°C pada permukaan wafer boleh mengganggu kawalan ketepatan ukuran CD, dan seterusnya menyebabkan kecacatan pada lapisan fotoresist. Kami telah membina pemanas inframerah khusus untuk bilik bersih ini, agar variasi suhu dapat dikurangkan pada tahap yang minimum.
Apa yang penting dari segi teknikal:
Elemen inframerah berpanjang gelombang pendek memberikan haba secara cepat dan langsung kepada wafer, sehingga suhu yang diinginkan dapat dicapai dalam masa beberapa saat sahaja. Keseragaman suhu pada permukaan wafer kekal dalam lingkungan ±0.1°C di seluruh kawasan pembakaran, dan kebolehulangan proses pembakaran juga tetap terkawal. Badan pemanas ini direka khas untuk bilik bersih kelas 1–100, dengan sambungan yang tertutup dan tiada filamen yang terdedah, agar tidak berlaku penghasilan zarah-zarah halus di lantai bilik bersih. Prestasi pemanas ini kekal stabil selama lebih dari 5,000 jam, dengan perubahan intensiti haba kurang dari 5%.
Proses pemprosesan fotoresist tidak akan bertoleransi terhadap kawalan suhu yang buruk. Pemanas inframerah kami sesuai untuk digunakan dalam proses pembakaran jenis “soft bake” dan “hard bake”. Selain itu, pemanas ini juga dapat menyejukkan wafer dengan cepat, sekaligus memendekkan masa proses pembakaran. Penggunaan tenaga juga berkurangan kerana waferlah yang dipanaskan, bukan dinding bilik pembakaran. Kelebihannya ialah jumlah wafer yang perlu diperbaiki berkurangan, distribusi ukuran CD menjadi lebih tepat, dan prestasi proses pembakaran menjadi lebih konsisten dari satu syif ke syif yang lain.
Berikut adalah perkara yang perlu dipertimbangkan semasa pemasangan: pastikan geometri port pemanas serta sistem bekalan kuasa sesuai. Kami menyediakan pelan antaramuka dan lengkung kalibrasi untuk memudahkan proses integrasi. Pastikan juga bahawa sistem elektrikal yang digunakan sesuai untuk bilik bersih, dan pastikan jarak antara wafer dan robot pengendali wafer mencukupi. Pemanas ini serasi dengan sistem SECS/GEM, namun jika anda ingin menggunakan profil pembakaran yang berdasarkan formula tertentu, anda memerlukan pemacu khusus.