팹 내에서는 포토레지스트를 가열하는 과정에서 발생하는 온도 변동이 단순한 이론적 문제가 아닙니다. 이는 실제로 생산 효율에 영향을 미치는 문제입니다. 만약 뜨거운 공기가 웨이퍼의 온도를 ±0.1°C 이내로 유지할 수 없다면, 웨이퍼의 크기가 변하게 되고, 결국 공장은 매일 같은 결함을 해결해야 하는 상황에 처하게 됩니다. 우리는 이러한 온도 변동을 원천적으로 방지하기 위해 에어컨 및 히터 모듈을 개발했습니다. 이 모듈은 열을 일관된 방식으로 전달함으로써 온도 변동을 최소화합니다.
기술적으로 중요한 점은 무엇인가? 이 모듈은 근적외선(NIR)을 사용하여 아주 작은 범위 내에서 균일한 온도 분포를 만들어냅니다. 그 결과, 웨이퍼는 매번 동일한 온도 조건을 경험하게 됩니다. 실제로 이는 부드러운 가열과 강력한 가열 과정에서도 온도가 일관되게 유지된다는 것을 의미합니다. 또한, 이 설계는 입자 생성을 거의 없애서 클래스 1–100급 청정실과도 호환됩니다. 히터의 성능도 현대 리소그래피 기술의 요구사항을 충족하도록 설계되었습니다.
중요한 것은, 열이 변수가 아니라 공정 파라미터로서 작용해야 한다는 것입니다. 이 모듈은 공기 흐름이나 작동 주기가 변해도 온도를 안정적으로 유지합니다. 이를 통해 폐기물이 줄어들고, 재작업이 줄어들며, 검증 과정도 단축됩니다. 에너지 사용량도 줄어듭니다. 왜냐하면 시스템은 필요한 때에만 필요한 만큼만 열을 공급하기 때문입니다. 신뢰성은 깨끗하고 일관된 온도 분포 덕분에 확보됩니다. 이를 통해 부품에 가해지는 열 스트레스가 줄어들고, 예상치 못한 가동 중단도 방지됩니다.
사전에 알아야 할 사항은 무엇인가? 설치할 때는 목표로 하는 AHU의 공기 흐름 패턴과 구조와 잘 맞아야 합니다. 잘못된 배관 구조는 온도 분포를 왜곡시켜 균일성을 해칩니다. NIR 파워 분배를 조절하기 위해서는 특정 청정실의 부하 상황에 맞게 설정해야 합니다. 일단 정확하게 설치되면, 이 모듈은 안정적인 성능을 제공합니다. 하지만 먼저 적절한 기계적 구조가 준비되어 있어야 합니다.