Di lingkungan pabrik, profil suhu di dalam chamber PECVDlah yang menentukan kualitas lapisan film yang terbentuk. Jika emiter mulai berubah posisi, hal tersebut akan segera diketahui; stres pada lapisan film, keseragaman ketebalan lapisan, serta jumlah partikel juga akan terpengaruh. Kami merancang emiter infra merah untuk PECVD ini agar dapat memenuhi persyaratan termal yang dituntut oleh teknologi modern. Emitter ini merupakan pengganti yang tepat untuk peralatan internasional yang sudah digunakan sebelumnya.
Inti dari sistem ini adalah pancaran inframerah berpanjang gelombang pendek, yang digunakan untuk mengeluarkan panas langsung ke kuarsa dan susceptor. Responsnya sangat cepat, sehingga setelan suhu dapat kembali normal dengan cepat setelah pintu dibuka atau setelah ada perubahan resep proses produksi. Tingkat keseragaman suhu pada tingkat wafer berkisar antara ±0,1°C, sehingga proses pembakaran fotoresist tetap berjalan sesuai spesifikasi yang ditentukan, dan kontrol ketebalan lapisan film pun tetap terjaga.
Sistem ini kompatibel dengan ruang bersih bertingkat kelas 1 hingga kelas 100. Sistem ini tidak menghasilkan partikel sama sekali, dan profil emisinya telah divalidasi hingga tingkat 0,1 μm. Efisiensi sistem ini berasal dari konversi energi resistif menjadi energi radiatif. Dalam penggunaannya, emiter ini dapat beroperasi 24/7 tanpa adanya gangguan yang tidak terduga.
Yang membuat sistem ini cocok untuk digunakan dalam PECVD adalah kemampuannya untuk menjaga keseimbangan termal dan tingkat repetitivitas proses produksi. Dengan demikian, hasil produksi akan lebih konsisten, jumlah wafer yang gagal berkurang, dan interval perawatan dapat direncanakan dengan lebih baik. Sistem ini dapat diintegrasikan ke dalam chamber yang sudah ada, tanpa perlu melakukan penyesuaian besar-besaran pada seluruh sistem, sehingga jadwal produksi dan prosedur operasional tetap terjaga.
Pemasangannya cukup sederhana, tetapi faktor penting yang perlu diperhatikan adalah kesesuaian antara emisi susceptor dengan kurva output emiter. Setelah proses penggantian dilakukan, sebaiknya dilakukan pemetaan profil suhu secara cepat, lalu konfirmasikan tingkat keseragaman suhunya. Setelah semuanya teratur, proses produksi akan tetap stabil dari satu shift ke shift berikutnya.