Di area litografi, keseragaman suhu selama proses pemanasan bukanlah hal yang sekadar diinginkan saja. Hal ini merupakan faktor penentu kualitas produk. Perubahan suhu sebesar 1°C pada permukaan wafer dapat mengganggu kontrol ketepatan ukuran wafer, sehingga menimbulkan kecacatan pada lapisan fotoresist. Kami merancang pemanas inframerah khusus untuk ruang bersih tipe Class 1–100, dengan sambungan yang tertutup dan tanpa filamen yang terlihat, agar tidak menghasilkan partikel berbahaya di udara. Performa pemanas tetap stabil selama lebih dari 5.000 jam, dengan perubahan intensitas cahaya kurang dari 5%.
Proses pemrosesan fotoresist membutuhkan kontrol suhu yang sangat akurat. Pemanas inframerah kami mampu memberikan panas yang cepat dan merata ke permukaan wafer, sehingga suhu tetap stabil dalam rentang ±0,1°C di seluruh area pemanasan. Repeatabilitasnya juga tinggi, karena adanya batasan suhu yang ketat. Pemanas ini dirancang untuk digunakan di ruang bersih tipe Class 1–100, dengan sambungan yang tertutup dan tanpa filamen yang terlihat, agar tidak menghasilkan partikel berbahaya di udara. Performa pemanas tetap stabil selama lebih dari 5.000 jam, dengan perubahan intensitas cahaya kurang dari 5%.
Proses pemrosesan fotoresist tidak mentolerir kontrol suhu yang buruk. Pemanas inframerah kami mampu memberikan panas yang sesuai dengan kebutuhan proses pemanasan, baik jenis pemanasan lembut maupun keras. Selain itu, pemanas ini juga mampu mendinginkan wafer dengan cepat, sehingga waktu siklus menjadi lebih singkat dan kapasitas produksi meningkat. Penggunaan energi pun berkurang, karena wafer yang dipanaskan, bukan dinding ruangan. Hasilnya adalah jumlah Produk yang perlu diperbaiki berkurang, distribusi ukuran wafer menjadi lebih tepat, dan kinerja pemanasan tetap stabil dari satu shift ke shift berikutnya.
Berikut hal-hal yang perlu dipertimbangkan saat pemasangan: pastikan geometri port pemanas dan kapasitas dayanya sesuai dengan kebutuhan. Kami menyediakan gambar-gambar referensi dan kurva kalibrasi agar proses integrasinya lebih mudah. Pastikan juga bahwa sistem kelistrikan yang digunakan sesuai standar ruang bersih, dan pastikan jarak antara wafer dan alat pengolahnya cukup. Pemanas ini kompatibel dengan sistem SECS/GEM, tetapi jika Anda ingin menggunakan profil pemanasan yang disesuaikan dengan resep tertentu, maka Anda memerlukan kontroler khusus.