Di tingkat litografi, seseorang akan belajar dengan cepat: pergeseran sebesar setengah derajat selama proses pemanasan fotoresist sudah cukup untuk mengubah dimensi-dimensi kritis benda kerja, sehingga membuatnya tidak dapat digunakan lagi. Kami menciptakan pemanas berpresisi tinggi untuk mencegah hal tersebut terjadi—dengan menjaga keseragaman suhu pada wafer hingga ±0,1°C, baik selama proses pemanasan ringan maupun berat.
Yang penting dalam proses ini adalah kontrol yang akurat, tingkat pengulangan yang konsisten, serta menjaga kebersihan lingkungan kerja.
Pemanas ini menggunakan sinar inframerah berpanjang gelombang pendek, sehingga dapat merespons dengan cepat dan secara konsisten untuk menstabilkan suhu wafer. Komponen-komponen berbahan kuarsa serta desain yang ramah lingkungan membantu menghilangkan partikel-partikel pengganggu, yang sangat penting dalam lingkungan kelas 1–100. Sistem penginderaan dan kontrol yang terintegrasi memungkinkan pengaturan suhu yang konsisten dari satu batch ke batch lainnya, bahkan ketika tegangan listrik tidak stabil.
Suhu merupakan faktor penting yang langsung mempengaruhi proses penghilangan pelarut dan proses pengikatan polimer dalam litografi.
Pemanas kami mampu mengontrol proses pemanasan ringan agar tercipta permukaan yang rata, lalu melakukan proses pemanasan intensif untuk meningkatkan daya rekat bahan setelah proses etching. Hasilnya adalah kontrol dimensi yang lebih baik dan pengurangan jumlah produk yang harus dibuat ulang. Penggunaan energi juga berkurang, karena sistem dapat mencapai suhu yang ditentukan dengan cepat dan mempertahankannya tanpa ada penyesuaian berlebihan.
Beberapa hal praktis yang perlu diperhatikan sebelum memesan peralatan ini: Pemasangan membutuhkan pasokan daya yang khusus dan terfiltrasi, serta isolasi termal yang baik, agar tidak terjadi interferensi dengan stasiun-stasiun lainnya. Waktu penyetelan prosesnya pun relatif singkat. Peralatan ini dapat digunakan bersama berbagai jenis antarmuka, tetapi jika digunakan pada platform yang lebih lama, mungkin diperlukan adapter mekanis khusus.