Sur le plan de fabrication, une variation de 0,1 °C pendant le processus de séchage suffit pour provoquer des écarts dans les dimensions des cristaux, la formation de résidus et donc une diminution du rendement. Les séchoirs conventionnels ne parviennent pas à contrer ces écarts de température ni les pics de concentration en particules qui apparaissent immédiatement après les transitions thermiques. Nous avons conçu ce séchoir afin d’éliminer ces incertitudes.
Ce qui est important au niveau technique Nous maintenons une uniformité thermique au niveau des wafers dans une fourchette de ±0,1 °C, grâce à l’utilisation d’émetteurs infrarouges à ondes courtes dans une chambre isolée en quartz. Ce système fonctionne dans des salles propres de classe 1–100. Nous vérifions l’absence totale de particules générées par des systèmes de surveillance en temps réel. Les profils de séchage du photorésiste restent stables, avec une précision de ±0,2 °C. Ainsi, les dimensions critiques des cristaux et leur profil latéral restent constants. L’architecture du chauffage permet de maintenir la température du substrat indépendamment des variations de température ambiante, ce qui garantit que chaque lot bénéficie du même traitement thermique.
Pourquoi cela convient au processus de lithographie En lithographie et lors du traitement du photorésiste, le séchoir influence directement la largeur des lignes, l’adhérence entre les couches et la quantité de solvant résiduel restant sur les cristaux. Une grande uniformité thermique signifie moins de travail supplémentaire et moins de réqualifications nécessaires. La compatibilité avec les salles propres et l’absence totale de particules réduisent le nombre de défauts. De plus, le fonctionnement continu sans arrêts imprévus permet au processus de continuer sans interruption. L’utilisation d’énergie est réduite, car les émetteurs s’allument rapidement et fonctionnent à basse puissance sans dérive de température. En somme, cela permet des processus stables, avec moins de fluctuations et des délais prévisibles.
Ce dont vous avez besoin pour l’installation L’appareil nécessite une alimentation électrique dédiée et filtrée, ainsi qu’un système de purge en azote, afin de maintenir une qualité optimale des particules à pleine température. L’intégration est simple sur des rails standards, mais il est nécessaire d’adapter la masse thermique et l’orientation des connecteurs aux équipements existants, afin d’éviter toute interférence mécanique. Il est également conseillé de réaliser une série de tests pour fixer les paramètres de séchage ; une fois ces paramètres définis, le profil de séchage reste constant d’un shift à l’autre et d’un lot de wafers à l’autre.