Dans les usines de fabrication, la dérive thermique lors du séchage du photorésistant n’est pas une théorie : c’est un problème réel qui affecte directement la qualité des produits finis. Lorsque l’air chaud ne parvient pas à maintenir la température des wafers dans une fourchette de ±0,1 °C, les dimensions critiques des wafers changent, ce qui force les opérateurs à lutter contre les mêmes défauts, jour après jour. Nous avons conçu ce module de chauffage pour stopper cette dérive dès son origine, en assurant une distribution régulière de la chaleur et en la contrôlant strictement.
Ce qui est important sur le plan technique
Le module utilise un chauffage par lumière infrarouge proche pour créer un champ thermique uniforme au niveau sub-millimétrique. Ainsi, les wafers subissent toujours le même profil thermique, quelle que soit la série produite. En pratique, cela signifie une stabilité lors des processus de séchage, ainsi qu’une répétabilité thermique qui permet au photorésistant de se comporter de manière cohérente d’une série à l’autre. La conception de ce module est compatible avec des salles propres de classe 1-100, car elle minimise la production de particules. De plus, le profil de chauffage est conçu pour respecter les contraintes thermiques liées aux techniques de lithographie modernes.
Ce que vous devez savoir avant de commencer
L’installation de ce module nécessite que le schéma de flux d’air et la géométrie de l’unité de traitement de l’air correspondent à ceux de l’installation existante. Un mauvais ajustement des conduites peut perturber le champ thermique et nuire à son uniformité. Il est nécessaire de procéder à des ajustements afin que la distribution de l’énergie infrarouge corresponde au profil de charge spécifique de la salle propre. Une fois correctement installé, le module assure des performances stables. Mais il est essentiel de bien choisir l’emplacement du module pour garantir un bon fonctionnement.