Máy sấy wafer với khả năng làm nóng đồng đều
Trong quá trình nung wafer, sự thay đổi nhiệt độ chỉ 0,1°C cũng đủ để gây ra những sai lệch trong quá trình xử lý, dẫn đến việc hình thành các vết...
Gia nhiệt đồng đều cho wafer 300mm bằng tia hồng ngoại
Trên dây chuyền 300mm, quá trình soft bake và hard bake không chỉ là các bước nhiệt đơn thuần mà còn là các cửa lọc năng suất. Nếu nhiệt IR không...