PECVD odasının içindeki sıcaklık profili, filmin kalitesini belirler. Eğer verici noktası sapmaya başlarsa, bunu hemen anlarsınız; filmdeki gerilim, kalınlık birimi ve parçacık sayısı da buna bağlı olarak değişir. Modern üretim süreçlerinin gerekliliklerini karşılamak için PECVD ısıtma cihazımızı geliştirdik; bu cihaz, mevcut ekipmanlarınızın yerine kullanılabilen, doğrulanmış bir çözüm olmuştur.
Cihazın temel unsuru, kısa dalga boyundaki kızılötesi ışınlardır; bu ışınlar doğrudan kuvars ve susceptorlara ısı aktarır. Tepki süresi saniyenin altındadır; bu sayede kapının açılması veya reçetenin değiştirilmesinden sonra ayarlar hızla geri düzenlenir. Her parti için wafer seviyesindeki sıcaklık tutarlılığı ±0,1°C civarındadır; bu da foto direncin uygun şekilde işlenmesini sağlar ve kritik CD kontrolünü korur.
Sınıf 1’den Sınıf 100’e kadar olan tüm temiz oda koşullarına uygun olan bu cihaz, sıfır parçacık üretir ve emisyon profilleri 0,1 μm seviyesine kadar doğrulanmıştır. Verimlilik, dirençten radyasyona dönüşüm sayesinde sağlanır; laboratuvar testlerimizde bu cihaz 24/7 kesintisiz çalışabilmektedir.
PECVD sistemlerinde yer almasının nedeni, termal denge ve tekrarlanabilirliğe verdiği önemdir. Böylece üretim süreçleri daha tutarlı hale gelir, atık waferler azalır ve bakım aralıkları daha planlanabilir hale gelir. Mevcut odalarla entegre olabilir ve böylece üretim planlarınız ve işletme düzeniniz bozulmaz.
Kurulumu oldukça basittir; ancak termal sabitleme ve susceptorun emisivitesi, vericinin çıkış eğrisiyle uyumlu olmalıdır. Değişimden sonra hızlı bir termal profil analizi yapılmalı, reçete sabitlenmeli ve tutarlılık kontrol edilmelidir. Bir kez ayarlandığında, süreç her vardiya boyunca stabil kalır.