На производственной линии отказ литографической лампы приводит не только к выходу из строя самого инструмента, но и к нарушению всей последовательности операций, необходимых для формирования геометрии устройства. Когда лампа начинает работать нестабильно, параметры процессов предварительной обработки и окончательной сушки изменяются, толщина фоторезиста становится нестабильной, что в свою очередь снижает точность производства. Запасные части для литографических ламп ASML разрабатываются таким образом, чтобы поддерживать необходимый уровень температуры, что позволяет сохранять стабильность параметров процессов экспозиции, предварительной обработки и окончательной сушки.
Что имеет значение внутри устройства
Мы используем источники кратковолнового и средневолнового излучения, соответствующие кривой поглощения фоторезиста, что обеспечивает стабильный выход излучения в диапазоне от 300 нм до 1100 нм. На поверхности ваферы температура остается стабильной в пределах ±0,1°C, а значения температуры сохраняются в рамках нескольких градусов. Кварцевая оболочка и специальная конструкция нитью обеспечивают стабильность спектрального излучения в течение более 5000 часов, при этом уровень излучения снижается менее чем на 5%. Совместимость с чистыми помещениями класса 1–100 обеспечивается за счет использования материалов с низким уровнем выбросов газов и специальной конструкции, предотвращающей загрязнение ваферы.
В процессе обработки фоторезиста предварительная сушка позволяет удалить растворители и сформировать нужную структуру слоя фоторезиста; окончательная сушка фиксирует эту структуру перед процессом этичения или имплантации. Наши лампы обеспечивают точный инфракрасный спектр излучения, необходимый для этих процедур, без превышения или недостаточности мощности излучения, а также без смещений по краям. Это позволяет более точно контролировать критические размеры, сокращать количество повторных операций и планировать время выполнения процесса. Использование энергии снижается благодаря быстрой реакции на изменения температуры и эффективной передаче энергии. Длительный срок службы ламп сокращает время простоев.
Вот несколько важных моментов, которые стоит учитывать при использовании таких ламп. Установка должна выполняться строго согласно инструкциям производителя относительно расположения лампы и системы охлаждения. Стабильность излучения зависит от стабильного напряжения и непрерывного потока охлаждающей жидкости – любые отклонения в этих параметрах ведут к изменению характеристик процесса сушки. Убедитесь, что тип разъема, размеры оболочки и мощность лампы соответствуют характеристикам вашего оборудования ASML. Также необходимо планировать замену ламп в рамках планового технического обслуживания, чтобы обеспечить непрерывность производства.