W zakładach zajmujących się litografią szybko się uczy się: nawet półstopniowy błąd podczas procesu wypalania fotorezystu może doprowadzić do zmian krytycznych wymiarów elementów, co skutkuje marnowaniem dużych ilości materiału. Stworzyliśmy wysokodokładne urządzenia grzewcze, aby temu zapobiec – one zapewniają jednolitość temperatury na poziomie płytki chemicznej w przedziale ±0,1°C zarówno podczas delikatnego, jak i intensywnego procesu wypalania.
To, co jest najważniejsze, to kontrola, powtarzalność oraz utrzymanie czystości w pomieszczeniach produkcyjnych.
Urządzenie grzewcze wykorzystuje krótkofalowe promieniowanie podczerwone, więc reaguje szybko i precyzyjnie, aby ustabilizować temperaturę płytki chemicznej. Komponenty kwarcowe oraz konstrukcja dostosowana do warunków panujących w czystych pomieszczeniach sprawiają, że nie powstają żadne cząsteczki, co jest niezbędne w środowiskach klasy 1–100. Zintegrowane systemy pomiarowe i sterowania umożliwiają realizację ustalonych parametrów w czasie rzeczywistym, dzięki czemu parametry procesu obróbki fotorezystu pozostają stałe w każdej partii produktu – nawet gdy napięcie w instalacji się zmienia.
Temperatura jest kluczowym parametrem, który bezpośrednio wpływa na usuwanie rozpuszczalników oraz tworzenie wiązań między cząsteczkami polimerów podczas litografii.
Nasze urządzenie grzewcze umożliwia realizację procesu delikatnego wypalania, który eliminuje nadmiar substancji na powierzchni płytki chemicznej, a następnie intensywnego wypalania, które poprawia przyczepność przed procesem wycięcia elementów. Dzięki temu uzyskujemy lepszą kontrolę nad wymiarami elementów oraz mniej konieczności ponownej obróbki. Ponadto zużycie energii zmniejsza się, ponieważ system szybko osiąga ustalone wartości temperatury i utrzymuje je przy minimalnym odchyleniu.
Przed dokonaniem wyboru urządzenia warto zwrócić uwagę na kilka praktycznych kwestii. Instalacja wymaga dedykowanego źródła zasilania z filtracją oraz odpowiedniego izolacji termicznej, aby uniknąć wpływu na sąsiednie stanowiska. Proces konfiguracji urządzenia może potrwać krótko, aby dostosować je do specyfiki używanego fotorezystu. Urządzenie działa z większością interfejsów, ale jeśli integrujesz je z starszymi platformami, możesz potrzebować specjalnego adaptatora mechanicznego.