Nella fase di essiccazione del catalizzatore, non si tratta certo di una procedura semplice e poco importante: si tratta infatti di un processo termico delicato, e un errore in questa fase può ridurre notevolmente l’efficienza del processo stesso. I forni a convezione creano delle differenze di temperatura sulla superficie del wafer; questo porta a una distribuzione irregolare del catalizzatore, alla formazione di buchi e a difetti che, successivamente, influiscono negativamente sulla qualità del prodotto finale.
Abbiamo progettato una lampada per l’essiccazione apposta per affrontare proprio questi problemi: è dotata di tecnologia NIR, funziona tramite lampada e viene progettata seguendo gli stessi principi termici utilizzati per la cottura dei materiali fotoreattivi e per i processi di litografia.
Quello di cui si ha bisogno, giorno dopo giorno, è un sistema su cui si possa fare affidamento e che possa essere controllato con precisione. Il sistema raggiunge rapidamente la temperatura desiderata grazie alla tecnologia NIR, senza alcun contatto diretto con il substrato; inoltre, permette di ottenere dei profili di temperatura ripetibili. La uniformità della temperatura sul wafer rimane entro i ±0,1°C nell’area illuminata, e la stabilità della temperatura è garantita anche durante il funzionamento continuo.
Il sistema è adatto per essere utilizzato in ambienti sterili, dalla Classe 1 fino alla Classe 100. I materiali e i componenti utilizzati garantiscono che non si generino particelle durante il funzionamento del sistema. Inoltre, il sistema funziona sempre allo stesso modo, shift dopo shift, lotto dopo lotto.
Ecco perché funziona così bene in pratica: elimina le variazioni durante la fase di essiccazione. Si ottiene quindi un tempo di essiccazione più breve, una morfologia del catalizzatore più uniforme e meno riparazioni necessarie. Inoltre, il consumo energetico diminuisce, poiché è la lampada ad riscaldare il materiale, e non tutta la camera. La affidabilità del sistema è garantita 24/7, con intervalli di manutenzione pianificabili, senza guasti imprevisti.
Un’ultima nota pratica: l’essiccazione con tecnologia NIR richiede che la geometria del dispositivo e l’allineamento dei riflettori siano precisi, altrimenti potrebbero verificarsi problemi nelle aree interessate dal trattamento. Abbiamo fornito un kit di validazione completo: mappe termiche, profili di intensità luminosa e componenti per l’installazione compatibili con ambienti sterili. In questo modo, il primo tentativo di utilizzo del sistema darà risultati uguali a quelli previsti dalle specifiche tecniche.