<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Літографія on Custom Infrared Heating Builds</title>
		<link>http://ir-heat-build.com/uk/tags/%D0%BB%D1%96%D1%82%D0%BE%D0%B3%D1%80%D0%B0%D1%84%D1%96%D1%8F/</link>
		<description>Recent content in Літографія on Custom Infrared Heating Builds</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>uk</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Wed, 01 Jul 2026 12:21:54 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heat-build.com/uk/tags/%D0%BB%D1%96%D1%82%D0%BE%D0%B3%D1%80%D0%B0%D1%84%D1%96%D1%8F/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Замінна лампа для літографування ASML</title>
				<link>http://ir-heat-build.com/uk/posts/asml-lithography-lamp-spare/</link>
				<pubDate>Wed, 01 Jul 2026 12:21:54 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-build.com/uk/posts/asml-lithography-lamp-spare/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-build.com/images/016cf4f616aaa15e4af48856b8adc51b.png&#34; alt=&#34;Замінна лампа для літографування ASML&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;На виробничій лінії вимкнення лампи для літографії не лише зупиняє роботу самої лампи, а й призводить до зупинки всього процесу, який визначає геометрію пристрою. Коли лампа починає погано функціонувати, параметри процедур нагрівання та висушування змінюються, товщина фоторезисту також змінюється, що призводить до втрати можливості стабільного виконання завдань на лінії. Запасні частини для ламп ASML розроблені так, щоб підтримувати потрібний рівень температури, що дозволяє зберігати стабільність параметрів процесу експозиції, попереднього нагрівання та висушування.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Що є важливим у цьому процесі&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Ми використовуємо джерела інфрачервоного випромінювання короткої та середньої довжини хвилі, які відповідають кривій поглинання фоторезисту. Це забезпечує стабільну потужність випромінювання в діапазоні від 300 нм до 1100 нм. На поверхні пластини температура залишається стабільною – з допуском ±0,1°C. Температурні параметри також залишаються стабільними протягом більш ніж 5,000 годин, зі зниженням потужності менше ніж на 5%. Сумісність з чистими приміщеннями класу 1–100 забезпечується завдяки матеріалам з низьким рівнем випаровування та спеціальній конструкції, яка запобігає забрудненню пластини.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
