<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>ПЭКВД on Custom Infrared Heating Builds</title>
		<link>http://ir-heat-build.com/ru/tags/%D0%BF%D1%8D%D0%BA%D0%B2%D0%B4/</link>
		<description>Recent content in ПЭКВД on Custom Infrared Heating Builds</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ru</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Mon, 22 Jun 2026 23:10:09 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heat-build.com/ru/tags/%D0%BF%D1%8D%D0%BA%D0%B2%D0%B4/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Инфракрасный излучатель для нагрева в процессе PECVD</title>
				<link>http://ir-heat-build.com/ru/posts/pecvd-heating-infrared-emitter/</link>
				<pubDate>Mon, 22 Jun 2026 23:10:09 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-build.com/ru/posts/pecvd-heating-infrared-emitter/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-build.com/images/0ea7296bcdd661f341d1983d454c4037.png&#34; alt=&#34;Инфракрасный излучатель для нагрева в процессе PECVD&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;На производственной площадке профиль температуры в камере &lt;a href=&#34;https://goldisgood.com&#34;&gt;PECVD&lt;/a&gt; определяет качество получаемой пленки. Если эмиттер начинает давать сбои, это сразу становится заметно – нарушается равномерность толщины пленки, возникают проблемы с ее структурой, а также увеличивается количество частиц в пленке. Мы разработали инфракрасный эмиттер для обогрева в камерах PECVD, который соответствует требованиям современных технологий. Он может заменить импортное оборудование без необходимости изменения всей системы.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Суть решения заключается в использовании коротковолнового инфракрасного излучения, направляемого непосредственно на кварц и подставку для поддержания пластинок. Реакция происходит за доля секунды, поэтому параметры быстро возвращаются в норму после открытия дверцы камеры или изменения параметров процесса. Равномерность температуры на уровне пластинок составляет ±0,1°C, что позволяет сохранять стабильные параметры процесса обработки фоторезиста и обеспечивает точный контроль его параметров.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
