Вафля on Custom Infrared Heating Builds

Сушка пластин с равномерным нагревом

Thu, 02 Jul 2026 08:19:18 +0800

На производственном участке достаточно колебаний температуры в пределах 0,1°C во время процесса сушки, чтобы это повлияло на качество пластинок, привело к образованию осадка и снизило эффективность производства. Традиционные сушильные устройства не способны противостоять таким колебаниям температуры и образованию частиц, которые возникают сразу после тепловых переходов. Мы разработали эту сушильную установку для устранения таких проблем.

Что важно внутри устройства Мы поддерживаем температурную однородность на уровне пластинок в пределах ±0,1°C с помощью инфракрасных излучателей коротких волн, расположенных в камере, изолированной от внешних факторов. Система работает в чистых комнатах класса 1–100. Мы контролируем отсутствие частиц с помощью встроенных датчиков. Параметры сушки фоторезиста остаются стабильными, с точностью до ±0,2°C, что позволяет контролировать размеры деталей и их форму. Архитектура нагревателя позволяет сохранять постоянную температуру подложки, независимо от изменений окружающей температуры. Это гарантирует одинаковые условия сушки для всех партий пластинок.

Фотovoltaический нагреватель из кремниевой пластины

Sun, 07 Jun 2026 03:39:53 +0800

На производственном участке литографическая линия, работающая круглосуточно без остановок, не допускает отклонений из-за теплового дрейфа. Если температура мягкой сушки отклонится всего на 2°C от заданной, профиль фоторезиста изменится. Контроль критического размера начинает ухудшаться, выход годной продукции падает, и планировщик вынужден осуществить незапланированную остановку. В высокомасштабной обработке фотогальванических пластин тепловой бюджет – это не рекомендация, а определяющий параметр процесса.

Что важно внутри

Мы разработали нагреватель для фотогальванических кремниевых пластин с акцентом на повторяемую подачу температуры. Обеспечивается однородность ±0.1°C по всей пластине и стабильность уставки в пределах жестких допусков. Инфракрасные элементы коротковолнового диапазона обеспечивают быстрый и чистый перенос энергии, а кварцевый тепловой дизайн контролирует выделение газов и частицы. Устройство подходит для чистых помещений классов от Class 1 до Class 100 и интегрируется с интерфейсами стандартного полупроводникового оборудования. Для сушки фоторезиста — мягкой и твердой — алгоритм управления поддерживает весь профиль нагрева, а не только пик, обеспечивая одинаковое удаление растворителя и сшивку полимера из партии в партию.

Равномерный нагрев для 300 мм вафли ИК

Sat, 06 Jun 2026 03:49:37 +0800

На линии 300 мм мягкий и твёрдый обжиг — это не просто термические этапы, а критические контрольные точки выхода. Если ИК-нагрев неравномерный, появятся вариации ширины линий, бахрома по краям и остатки, которые не удаляются при очистке. Исправить это нельзя за счёт инспекции — необходимо корректировать температурный профиль у источника.

Что важно с технической точки зрения
Мы построили ИК-нагреватель для 300-миллиметровых пластин на базе коротковолнового инфракрасного излучения с разработанными рефлекторами и системой замкнутого контура зонального контроля. Это обеспечивает равномерность по поверхности пластины в пределах ±0,1°C. Такая точность сохраняет тепловой бюджет фотораствора на всем слое пленки. Горячая зона контролируется по частицы для интеграции в чистые помещения классов 1–100, и мы подтвердили отсутствие генерации частиц при использовании встроенной метрологии. Повторяемость заложена в конструкцию — заданные значения возвращают одинаковый тепловой профиль из цикла в цикл, из партии в партию.