Secador de wafer com aquecimento uniforme

Thu, 02 Jul 2026 08:19:18 +0800

Na linha de produção, uma variação de 0,1°C durante o processo de secagem é suficiente para causar desvios na qualidade do wafer, gerar resíduos e reduzir a produtividade. Os secadores convencionais lutam contra as diferentes temperaturas entre as partes do wafer e contra os picos de partículas que aparecem logo após as transições térmicas. Criamos este secador de wafer justamente para eliminar essa incerteza.

O que realmente importa Conseguimos manter a uniformidade térmica ao nível do wafer dentro de ±0,1°C, utilizando emissores de infravermelho de onda curta em uma câmara isolada por quartzo, que transfere calor sem liberar partículas. O sistema funciona em salas limpas de classe 1–100, e verificamos que não há geração de partículas, graças ao monitoramento em tempo real. Os perfis de secagem do fotoresist permanecem consistentes, com estabilidade dentro de ±0,2°C, assim a controle das dimensões críticas e do perfil das paredes do wafer não é afetado. A arquitetura do aquecedor mantém a temperatura do substrato independente das flutuações ambientais, garantindo que cada lote receba o mesmo tratamento térmico.

Calor uniforme para wafer IR de 300 mm

Sat, 06 Jun 2026 03:49:37 +0800

Em uma linha de 300mm, soft bake e hard bake não são apenas etapas térmicas—são barreiras de rendimento. Se o seu aquecimento IR não for uniforme, você verá variação na largura das linhas, edge bead e resíduos que sobrevivem à limpeza. Você não pode inspecionar para resolver isso. Corrija o perfil de temperatura na fonte.

O que importa tecnicamente
Construímos o aquecedor IR para wafers de 300mm em torno do infravermelho de onda curta, com refletores projetados e controle em malha fechada por zonas. Isso proporciona uniformidade a nível de wafer dentro de ±0,1°C. Essa faixa restrita protege o orçamento térmico do fotorresiste em toda a pilha de filmes. A zona quente permanece controlada quanto a partículas para integração em salas limpas Classe 1–100, e verificamos geração zero de partículas contra metrologia inline. A repetibilidade está incorporada no projeto—os pontos de ajuste retornam ao mesmo perfil térmico execução após execução, lote após lote.

Uniforme on Custom Infrared Heating Builds

Secador de wafer com aquecimento uniforme

Calor uniforme para wafer IR de 300 mm