Aquecedor infravermelho para forno de sala limpa

Thu, 18 Jun 2026 04:05:37 +0800

Na área de litografia, a uniformidade da temperatura durante o processo de aquecimento não é algo que possa ser ignorado. Trata-se de um fator crítico para a qualidade do produto final. Uma variação de 1°C na temperatura da placa de silício pode afetar o controle da espessura do fotoresistente e causar defeitos nele. Por isso, desenvolvemos aquecedores a infravermelhos para salas limpas, com o objetivo de eliminar essa variabilidade desde a origem.

O que é importante, do ponto de vista técnico:
Os elementos infravermelhos de onda curta emitem calor de forma rápida e direta sobre a placa de silício, permitindo que a temperatura desejada seja alcançada em segundos. A uniformidade da temperatura na superfície da placa permanece dentro de ±0,1°C ao longo da zona de aquecimento. Além disso, a repetibilidade dos resultados é mantida dentro de limites bem definidos. O corpo do aquecedor foi projetado para ser utilizado em salas limpas de classe 1–100, com juntas seladas e sem filamentos expostos, evitando assim a geração de partículas indesejadas. A potência de saída permanece constante por mais de 5.000 horas, com uma variação de intensidade inferior a 5%.

Elemento de aquecimento para forno de vácuo fab

Wed, 03 Jun 2026 12:15:22 +0800

No chão de fábrica, a etapa de bake do fotoresiste não é apenas um aquecimento. É um limite rigoroso do processo.
Errar a temperatura por poucos graus no soft bake ou hard bake faz com que o controle da dimensão crítica se desfaça. A linha começa a rejeitar wafers antes mesmo da etapa de gravação. Por isso, os elementos de aquecimento do forno a vácuo precisam manter uniformidade térmica em toda a câmara, no lote inteiro e semana após semana.

Forno on Custom Infrared Heating Builds

Aquecedor infravermelho para forno de sala limpa

Elemento de aquecimento para forno de vácuo fab