<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Seragam on Custom Infrared Heating Builds</title>
		<link>http://ir-heat-build.com/ms/tags/seragam/</link>
		<description>Recent content in Seragam on Custom Infrared Heating Builds</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ms</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Thu, 02 Jul 2026 08:19:21 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heat-build.com/ms/tags/seragam/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Pengering wafer dengan pemanasan yang seragam</title>
				<link>http://ir-heat-build.com/ms/posts/uniform-heating-wafer-dryer/</link>
				<pubDate>Thu, 02 Jul 2026 08:19:21 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-build.com/ms/posts/uniform-heating-wafer-dryer/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-build.com/images/a071a4619f1d04d8f3e2839bd3740f1c.png&#34; alt=&#34;Pengering wafer dengan pemanasan yang seragam&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Di bilik proses pembuatan cip ini, perubahan suhu sebanyak 0.1°C semasa proses pembakaran yang lembut atau keras sudah cukup untuk menyebabkan ketidakkonsistenan pada cip tersebut, serta menghasilkan sisa-sisa bahan yang tidak diinginkan. Pengering konvensional pula tidak mampu mengatasi masalah perbezaan suhu antara bahagian-bahagian cip, serta masalah kehadiran zarah-zarah yang timbul selepas proses pemanasan. Kami mencipta pengering cip ini untuk menghilangkan faktor-faktor ketidakpastian tersebut.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Apa yang penting dalam sistem ini&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Kami memastikan suhu pada permukaan cip tetap stabil dalam lingkungan ±0.1°C, dengan menggunakan pemancar inframerah gelombang pendek di dalam bilik khas yang dilindungi oleh kuarz. Sistem ini beroperasi dalam bilik bersih kelas 1–100, dan kami memastikan tiada zarah yang &lt;a href=&#34;https://henruite.com&#34;&gt;terhasil&lt;/a&gt; melalui pemantauan secara berkala. Profil pemanasan bahan fotoresist juga kekal konsisten, dengan ketepatan sekitar ±0.2°C. Dengan cara ini, kawalan dimensi penting pada cip dapat dipertahankan dengan baik. Reka bentuk pemanas pula memastikan suhu substrat tidak terjejas oleh perubahan suhu persekitaran, sehingga setiap kumpulan cip mendapat keadaan termal yang sama.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
