<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Pengeringan on Custom Infrared Heating Builds</title>
		<link>http://ir-heat-build.com/ms/tags/pengeringan/</link>
		<description>Recent content in Pengeringan on Custom Infrared Heating Builds</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ms</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Sat, 25 Jul 2026 04:41:51 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heat-build.com/ms/tags/pengeringan/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Pemanas untuk mengeringkan wafer sensor MEMS</title>
				<link>http://ir-heat-build.com/ms/posts/reducing-carbon-footprint-in-mems-wafer-drying-via-ir-heating-systems/</link>
				<pubDate>Sat, 25 Jul 2026 04:41:51 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-build.com/ms/posts/reducing-carbon-footprint-in-mems-wafer-drying-via-ir-heating-systems/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-build.com/images/0ea7296bcdd661f341d1983d454c4037.png&#34; alt=&#34;Pemanas untuk mengeringkan wafer sensor MEMS&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Mengurangkan pengeluaran karbon dalam proses pengeringan MEMS menggunakan cahaya inframerah&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Ketika membuat sensor MEMS, membuang kelembapan dari wafer tersebut merupakan proses yang rumit. Anda perlu membuang air tersebut, tetapi anda tidak boleh menggunakan haba secara langsung, kerana ia akan merosakkan keseluruhan komponen tersebut.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;a href=&#34;https://o-yate.net&#34;&gt;Itulah&lt;/a&gt; sebabnya kita menggunakan lampu inframerah berpanjang gelombang pendek. Berbeza dengan kaedah pemanasan biasa yang memanaskan udara dan dinding di sekelilingnya, cahaya inframerah bertindak secara langsung pada molekul air. Ini bermakna tiada keperluan untuk memanaskan udara terlebih dahulu.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
			<item>
				<title>Pengauditan tenaga untuk proses pengeringan di kilang</title>
				<link>http://ir-heat-build.com/ms/posts/energy-audit-for-fab-drying/</link>
				<pubDate>Mon, 20 Jul 2026 11:12:09 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-build.com/ms/posts/energy-audit-for-fab-drying/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-build.com/images/1764273a9805a56244015746cb190d47.png&#34; alt=&#34;Pengauditan tenaga untuk proses pengeringan di kilang&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Mengapa kami melakukan ujian tekanan pada setiap komponen pemanas&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Ketika mesin pengering beroperasi, komponen pemanas akan menghadapi tekanan haba yang sangat tinggi. Cukup sekali saja berlaku kebocoran kecil pada lapisan pengasing atau retakan halus pada tiub kuarsa, maka berlakulah masalah yang serius.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Itulah sebabnya kami tidak mengambil risiko. Setiap lampu dan komponen pemanas perlu menjalani ujian voltan tinggi serta ujian ketahanan pengasingan sebelum boleh digunakan.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Realiti kerosakan dielektrik&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Dalam persekitaran kilang, kelembapan dan bahan kotoran cenderung untuk meresap ke terminal bervolta tinggi. Jika lapisan pengasing tersebut rosak, arus elektrik akan terus mengalir ke badan mesin.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
			<item>
				<title>Pemanas pengeringan makmal pada cip</title>
				<link>http://ir-heat-build.com/ms/posts/lab-on-a-chip-drying-heater/</link>
				<pubDate>Tue, 02 Jun 2026 05:53:35 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-build.com/ms/posts/lab-on-a-chip-drying-heater/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-build.com/images/1764273a9805a56244015746cb190d47.png&#34; alt=&#34;Pemanas pengeringan makmal pada cip&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Di lantai fab, pergeseran terma semasa langkah pengeringan atau pembakaran tidak akan memicu amaran. Ia muncul sebagai pergeseran dalam dimensi kritikal, kerugian hasil dalam pembungkusan, dan peningkatan jumlah zarah selepas pembersihan. Kami membina pemanas Lab on a Chip untuk pengeringan bagi memastikan tingkah laku terma kekal stabil apabila tetingkap proses adalah ketat—pengeringan wafer, photoresist soft bake dan hard bake, penyembuhan encapsulasi, dan pengeringan selepas pembersihan.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Berikut adalah perkara yang benar-benar penting: kebolehulangan di bawah beban. Pemanas mengekalkan keseragaman ±0.1°C di seluruh zon aktif, menetap dengan cepat, dan mengekalkan overshoot yang rendah. Elemen NIR menyampaikan tenaga dengan pantas tanpa sentuhan, dan sistem ini sesuai untuk bilik bersih Kelas 1–100 berkat seni bina zarah rendah dan bahan yang serasi dengan kebersihan. Kawalan adalah tertutup, boleh dikesan, dan boleh diulang dari satu batch ke batch lain, supaya bajet terma anda kekal dalam spesifikasi.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
