Penderia IR yang tepat untuk kegunaan pada wafer.

Wed, 15 Jul 2026 09:50:14 +0800

Memastikan keselamatan ketika memanaskan bahan kimia yang mudah terbakar
Sejujurnya, memanaskan bahan kimia dalam cecair kimia merupakan proses yang berisiko tinggi. Apabila kita bekerja dengan bahan pelarut yang mudah terbakar, risikonya sangat besar. Sebarang percikan api atau masalah pada lampu boleh menyebabkan letupan. Ini merupakan situasi yang sangat berbahaya.

Itulah sebabnya kita perlu melindungi lampu tersebut dengan lapisan pelindung. Kita perlu mengasingkan komponen elektrik daripada unsur-unsur lain agar suasana di sekelilingnya tidak membawa kepada bencana.

Pemanas suhu berketepatan tinggi

Sun, 28 Jun 2026 05:20:10 +0800

Dalam proses litografi, seseorang boleh belajar dengan cepat: perubahan suhu sebanyak setengah darjah semasa proses pemanasan bahan fotoresist sudah cukup untuk mengubah dimensi komponen-komponen penting dalam wafer, sehingga menyebabkan bahan tersebut menjadi tidak berguna. Kami telah mencipta pemanas berketepatan tinggi untuk mencegah hal ini berlaku—dengan memastikan suhu wafer kekal stabil pada tahap ±0.1°C, sama ada semasa proses pemanasan lembut mahupun keras.

Apa yang penting ialah kawalan yang tepat, kebolehulangan proses, serta kebersihan alat yang digunakan. Pemanas ini menggunakan gelombang inframerah pendek, jadi ia dapat bertindak balas dengan cepat dan tepat untuk menstabilkan suhu wafer. Komponen-komponen kuarsa serta reka bentuk yang sesuai dengan keperluan bilik bersih membantu mengelakkan pembentukan zarah-zarah yang tidak diinginkan, yang sangat penting dalam persekitaran kelas 1–100. Sistem pengesanan dan kawalan yang terintegrasi membolehkan tetapan suhu tetap konsisten dari satu kumpulan bahan ke kumpulan bahan yang lain, walaupun voltan sistem berubah.

Ketepatan on Custom Infrared Heating Builds

Penderia IR yang tepat untuk kegunaan pada wafer.

Pemanas suhu berketepatan tinggi