IR on Custom Infrared Heating Builds

Reflektor aluminium untuk lampu IR

Fri, 24 Jul 2026 11:24:14 +0800

Hentikan pembaziran haba: Penyelesaian mudah untuk masalah kebocoran cahaya IR
Dalam kilang pengeluaran semikonduktor, haba merupakan faktor yang sukar dikawal. Apabila lampu IR berkuasa tinggi digunakan, sebahagian besar tenaga tersebut akan hilang begitu sahaja. Tenaga tersebut tidak sampai ke wafer, sebaliknya ia terpantul pada dinding dalaman mesin. Ini menyebabkan mesin tersebut berfungsi seperti radiator yang besar. Cara ini sangat tidak efisien, dan tentunya membahayakan keselamatan orang-orang yang berada di sekitarnya.

Penyelesaiannya sebenarnya sangat mudah: gunakan reflektor aluminium yang berkualiti tinggi bersama-sama dengan sumber cahaya IR tersebut.

Penderia IR yang tepat untuk kegunaan pada wafer.

Wed, 15 Jul 2026 09:50:14 +0800

Memastikan keselamatan ketika memanaskan bahan kimia yang mudah terbakar
Sejujurnya, memanaskan bahan kimia dalam cecair kimia merupakan proses yang berisiko tinggi. Apabila kita bekerja dengan bahan pelarut yang mudah terbakar, risikonya sangat besar. Sebarang percikan api atau masalah pada lampu boleh menyebabkan letupan. Ini merupakan situasi yang sangat berbahaya.

Itulah sebabnya kita perlu melindungi lampu tersebut dengan lapisan pelindung. Kita perlu mengasingkan komponen elektrik daripada unsur-unsur lain agar suasana di sekelilingnya tidak membawa kepada bencana.

Hujung porselin untuk pengeluarkan gelombang inframerah

Thu, 09 Jul 2026 05:03:24 +0800

Bagaimana Kami Mencipta Sistem Pemanasan IR Tanpa Kecontaminan
Jika anda mengendalikan bilik bersih kelas 100, anda pasti tahu bahawa elemen pemanasan biasa tidak sesuai digunakan. Elemen-elemen tersebut akan mengeluarkan zarah-zarah kecil, serta gas dari bahan-bahan yang kurang berkualiti. Ini merupakan risiko yang tidak boleh diterima.

Oleh itu, kami mencipta sistem pemanasan IR yang menggunakan hujung kaca seramik sebagai komponen utama. Hujung kaca ini memastikan sambungan elektrik berada jauh daripada kawasan bersih. Dengan cara ini, satu-satunya komponen yang ada dalam udara bersih tersebut ialah tiub kaca kuarsa yang berkualiti tinggi. Tiada apa-apa lagi.

Pemanasan seragam untuk wafer 300mm IR

Sat, 06 Jun 2026 03:49:37 +0800

Pada garis 300mm, soft bake dan hard bake bukan sekadar langkah thermal—ia adalah pintu pengeluaran. Jika haba IR anda tidak seragam, anda akan melihat variasi garis, edge bead, dan sisa yang bertahan selepas pembersihan. Anda tidak boleh memeriksa untuk mengatasinya. Betulkan profil suhu di sumbernya.
Apa yang penting secara teknikal
Kami membina pemanas IR wafer 300mm sekitar inframerah gelombang pendek, dengan reflektor yang direkayasa dan kawalan zon gelung tertutup. Ini memberikan keseragaman di peringkat wafer dalam ±0.1°C. Jalur ketat ini melindungi bajet thermal photoresist merentasi keseluruhan lapisan filem. Zon panas kekal terkawal partikel untuk integrasi bilik bersih Kelas 1–100, dan kami telah mengesahkan tiada penghasilan partikel berbanding metrologi dalam talian. Kebolehulangan telah direka ke dalam reka bentuk—setpoint mengembalikan profil thermal yang sama dari satu larian ke larian yang lain, dari satu lot ke lot yang lain.
Mengapa ia berfungsi dalam pengeluaran
Dalam trek bake litografi, masa operasi adalah mata wangnya. Sistem ini dibina untuk 7×24 dengan tiada waktu henti yang tidak dirancang, menggunakan elemen thermal yang dinilai untuk kitaran tugas hayat panjang dan seni bina thermal yang kekal stabil di bawah beban pengeluaran besar. Pulangannya adalah kawalan CD yang boleh diramal, lebih sedikit lot yang perlu dikerjakan semula, dan tingkap proses yang tidak mengembara, jadi sisa dan masa kelayakan semula berkurang. Penggunaan tenaga dioptimumkan melalui kawalan ramp yang cepat dan kehilangan masa rehat yang minimum, mengekalkan kos operasi rendah tanpa mengorbankan keseragaman.
Apa yang perlu anda rancang
Sistem memerlukan pelan kuasa dan penyejuk khusus yang sepadan dengan beban thermal dan ekzos bilik bersih. Integrasi adalah mudah ke dalam trek standard, tetapi jejak dan kekangan antara muka adalah tetap—atur susun atur alat anda dan akses penyelenggaraan sebelum anda memuktamadkan pelan lantai. Dan jadwalkan pemeriksaan kalibrasi berkala supaya ±0.1°C kekal boleh dijejaki merentasi jenis wafer dan resipi bake.