半導体ヒーター用熱電対

ファブ内では、ホットプレートエリアでの0.5度というわずかな温度変動も「小さな偏差」とは言えません。これにより、重要な寸法が狂ったり、現像後にスカムが残ったり、フォトレジストが意図した通りに流れなくなったりします。リソグラフィーやレジスト処理において、温度は単なる背景設定ではなく、プロセスの核心部...