<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Litografi on Custom Infrared Heating Builds</title>
		<link>http://ir-heat-build.com/id/tags/litografi/</link>
		<description>Recent content in Litografi on Custom Infrared Heating Builds</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>id</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Wed, 01 Jul 2026 12:21:54 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heat-build.com/id/tags/litografi/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Suku cadang lampu litografi ASML</title>
				<link>http://ir-heat-build.com/id/posts/asml-lithography-lamp-spare/</link>
				<pubDate>Wed, 01 Jul 2026 12:21:54 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-build.com/id/posts/asml-lithography-lamp-spare/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-build.com/images/016cf4f616aaa15e4af48856b8adc51b.png&#34; alt=&#34;Suku cadang lampu litografi ASML&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Di area produksi, ketika lampu litografi berhenti bekerja, bukan hanya alat tersebut yang tidak dapat digunakan, tetapi seluruh proses pembuatan perangkat juga terhenti. Ketika kinerja lampu menurun, profil pemanasan yang digunakan pun berubah, ketebalan lapisan fotoresist pun menjadi tidak stabil, sehingga hasil produksi menjadi tidak konsisten. Lampu litografi dari ASML dirancang sedemikian rupa agar suhu tetap stabil, sehingga proses eksposur, pemanasan awal, dan proses pengeringan dapat berjalan sesuai spesifikasi yang ditentukan.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Yang perlu diperhatikan dalam proses produksi&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Kita memilih sumber cahaya inframerah berfrekuensi rendah dan sedang yang sesuai dengan kurva penyerapan fotoresist, sehingga menghasilkan output yang stabil antara 300 nm hingga 1100 nm. Di seluruh permukaan wafer, keseragaman suhu tetap terjaga pada kisaran ±0,1°C, dan nilai suhu tetap konstan dalam rentang beberapa derajat. Selubung kuarsa dan desain filamen yang tepat memastikan output spektral tetap stabil selama lebih dari 5.000 jam, dengan penurunan output kurang dari 5%. Kompatibilitas dengan ruang bersih kelas 1–100 dicapai melalui penggunaan bahan-bahan yang minim emisi gas dan desain yang mampu mencegah kontaminasi pada wafer.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
