http://ir-heat-build.com/fa/tags/%D9%81%D8%B1%D8%B3%D8%AA%D9%86%D8%AF%D9%87/ Recent content in فرستنده on Custom Infrared Heating Builds Hugo fa Thu, 09 Jul 2026 05:03:24 +0800 http://ir-heat-build.com/fa/posts/ceramic-end-cap-for-ir-emitter/ Thu, 09 Jul 2026 05:03:24 +0800 http://ir-heat-build.com/fa/posts/ceramic-end-cap-for-ir-emitter/ <p><img src="http://ir-heat-build.com/images/0a976f8a438e1a813cc995e9355a4471.png" alt="پوشش سرامیکی برای فرستنده مادون قرمز"></p> <p>چگونه یک سیستم گرمایشی بدون آلودگی ایجاد می‌کنیم؟<br> اگر شما فضای تمیز کلاس ۱۰۰ را اداره می‌کنید، قطعاً می‌دانید که عناصر گرمایشی استاندارد مناسب نیستند. زیرا آن‌ها ذرات ریزی را تولید می‌کنند؛ همچنین از مواد ارزان‌تری ساخته شده‌اند و خطراتی را به همراه دارند که نمی‌توانید تحمل کنید.</p> <p>بنابراین، ما از یک کاپ سرامیکی برای ساخت این دستگاه استفاده کردیم. این کاپ، اتصالات الکتریکی را از منطقه تمیز دور نگه می‌دارد. در نتیجه، تنها چیزی که در هوای تمیز وجود دارد، لوله شیشه‌ای کوارتز با خلوص بالاست؛ چیز دیگری وجود ندارد.</p> http://ir-heat-build.com/fa/posts/pecvd-heating-infrared-emitter/ Mon, 22 Jun 2026 23:10:09 +0800 http://ir-heat-build.com/fa/posts/pecvd-heating-infrared-emitter/ <p><img src="http://ir-heat-build.com/images/0ea7296bcdd661f341d1983d454c4037.png" alt="فرستنده مادون قرمز برای گرم کردن در روش PECVD"></p> <p>در کارخانه‌های تولید، پروفایل دمایی درون محفظه <a href="https://o-yate.com">PECVD</a>، تعیین‌کننده ویژگی‌های فیلم تولید شده است. اگر منبع تولید حرارت شروع به تغییر کند، بلافاصله متوجه آن خواهیم شد؛ استرس فیلم، یکنواختی ضخامت فیلم و تعداد ذرات نیز تحت تأثیر قرار می‌گیرند. ما منبع حرارتی PECVD خود را طوری طراحی کرده‌ایم که با الزامات حرارتی مورد نیاز تراشه‌های مدرن سازگار باشد؛ همچنین این منبع جایگزین مناسبی برای تجهیزات موجود است.</p> <p>هسته اصلی این سیستم، نور مادون قرمز با طول موج کوتاه است؛ این نور، حرارت را مستقیماً به کوارتز و سطح مورد نظر منتقل می‌کند. واکنش این سیستم در کمتر از یک ثانیه اتفاق می‌افتد؛ بنابراین پس از باز شدن درب محفظه یا تغییر دستورالعمل‌ها، پروفایل دمایی به سرعت به حالت عادی برمی‌گردد. یکنواختی دمایی در سطح ویفرها در حد ±۰٫۱ درجه سانتی‌گراد است؛ این موضوع باعث می‌شود فرآیندهای پختن ویفرها در محدوده استاندارد باقی بماند و کنترل دقیق اندازه تراشه‌ها نیز تضمین شود.</p>