Einhellmischer für das gleichmäßige Erhitzen von Wafern

Thu, 02 Jul 2026 08:19:18 +0800

In der Produktionsstätte reicht bereits eine Temperaturschwankung von 0,1 °C während des Weich- oder Hartbrennvorgangs aus, um zu Fehlern bei der Herstellung der CDs zu führen – außerdem entstehen dabei Rückstände, was wiederum die Produktivität beeinträchtigt. Herkömmliche Trockner können nur gegenüber Temperaturunterschieden zwischen den Wafern vorgehen sowie gegenüber plötzlichen Temperaturschwankungen. Wir haben diesen Waftertrockner entwickelt, um diese Unsicherheiten auszuschließen.

Was wirklich wichtig ist Wir halten die thermische Homogenität auf Waferebene bei ±0,1 °C, indem wir kurzwellige Infrarotstrahler in einer mit Quarz isolierten Kammer verwenden. Dadurch wird Wärme übertragen, ohne dass Partikel freigesetzt werden. Das System funktioniert in Reinräumen der Klasse 1–100. Wir überprüfen außerdem, dass keine Partikel entstehen, durch kontinuierliche Überwachung. Die Profile des Photoresists bleiben konstant, wobei die Stabilität der Einstellungen bei ±0,2 °C liegt. Dadurch bleibt die Kontrolle der kritischen Abmessungen sowie des Profils der Seitenwände konstant. Die Heizarchitektur sorgt dafür, dass die Temperatur des Substrats unabhängig von den Umgebungsbedingungen bleibt – somit erhält jede Charge die gleichen Bedingungen.

Einheitliche Wärme für 300 mm Wafer IR

Sat, 06 Jun 2026 03:49:37 +0800

Auf einer 300mm Linie sind Softbake und Hardbake nicht nur thermische Schritte – sie sind Ertragstore. Wenn Ihre IR-Heizung nicht gleichmäßig ist, werden Sie eine Variabilität der Linienbreite, Randansammlungen und Schmutz sehen, der die Reinigung übersteht. Sie können das nicht durch Inspektion beheben. Korrigieren Sie das Temperaturprofil an der Quelle.
Was technisch wichtig ist
Wir haben den 300mm Wafer-IR-Heizer um kurzwellige Infrarotstrahlung herum entwickelt, mit konstruierten Reflektoren und einer geschlossenen Regelung der Zonen. Das sorgt für eine gleichmäßige Wafer-Temperatur innerhalb von ±0,1°C. Dieses enge Band schützt das thermische Budget des Fotolacks über den gesamten Filmstapel. Die heiße Zone bleibt partikelkontrolliert für die Integration in Reinräume der Klasse 1–100, und wir haben die Null-Partikel-Generierung gegen Inline-Metrologie verifiziert. Die Wiederholgenauigkeit ist in das Design integriert – Sollwerte liefern denselben thermischen Profillauf nach Lauf, Charge nach Charge.
Warum es in der Produktion Bestand hat
In Lithografiebake-Tracks ist die Betriebszeit die Währung. Dieses System ist für den 7×24-Betrieb mit null ungeplanten Ausfallzeiten ausgelegt, unter Verwendung von thermischen Elementen, die für Langzeit-Betriebszyklen ausgelegt sind, und einer thermischen Architektur, die unter Produktionslast stabil bleibt. Der Vorteil ist vorhersehbare CD-Kontrolle, weniger Nachbearbeitungschargen und ein Prozessfenster, das nicht driftet, wodurch Abfall und Neuzulassungszeiten sinken. Der Energieverbrauch ist durch schnelle Rampenkontrolle und minimale Leerlaufverluste optimiert, wodurch die Betriebskosten gesenkt werden, ohne die Gleichmäßigkeit zu opfern.
Was Sie planen müssen
Das System benötigt einen dedizierten Strom- und Kühlschmiermittelplan, der auf die thermische Last und die Abzüge des Reinraums abgestimmt ist. Die Integration ist einfach in standardisierte Tracks, aber die Stellfläche und Schnittstellenbeschränkungen sind fest – planen Sie das Layout Ihrer Geräte und den Zugang zur Wartung, bevor Sie den Grundriss finalisieren. Und planen Sie regelmäßige Kalibrierungsprüfungen ein, damit ±0,1°C über Wafer-Typen und Bake-Rezepte hinweg nachverfolgbar bleibt.

Uniform on Custom Infrared Heating Builds

Einhellmischer für das gleichmäßige Erhitzen von Wafern

Einheitliche Wärme für 300 mm Wafer IR