<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Kabel on Custom Infrared Heating Builds</title>
		<link>http://ir-heat-build.com/de/tags/kabel/</link>
		<description>Recent content in Kabel on Custom Infrared Heating Builds</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>de</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Sat, 11 Jul 2026 08:43:23 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heat-build.com/de/tags/kabel/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Teflondraht für Halbleiterheizer</title>
				<link>http://ir-heat-build.com/de/posts/teflon-wire-for-semiconductor-heater/</link>
				<pubDate>Sat, 11 Jul 2026 08:43:23 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-build.com/de/posts/teflon-wire-for-semiconductor-heater/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-build.com/images/e359da41a435291bc4b653b358552252.png&#34; alt=&#34;Teflondraht für Halbleiterheizer&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Warum Infrarotbeheizung der Hot-Air-Beheizung in der Halbleiterfertigung überlegen ist&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Der Wechsel von Hot-Air-Beheizung auf Infrarotbeheizung in der Halbleiterfertigung bedeutet nicht nur einen Wechsel des Heizsystems – es handelt sich dabei vielmehr um eine völlig neue Art und Weise, mit Energie umzugehen.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Betrachten wir die Hot-Air-Beheizung: Sie ist langsam. Zuerst wird die Luft erhitzt, anschließend heizt diese Luft den Wafer. Es entsteht immer eine Verzögerung. Bei der Infrarotbeheizung ist das anders: Es handelt sich dabei um Strahlung. Die Energie gelangt direkt zum Zielobjekt. &lt;strong&gt;Es ist also schnell – wirklich schnell.&lt;/strong&gt;&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
