Trên sàn sản xuất, quá trình nung photoresist không chỉ là giai đoạn khởi động. Đây là ranh giới quy trình quan trọng. Chỉ cần sai lệch nhiệt độ vài độ trong soft bake hoặc hard bake, kiểm soát kích thước quan trọng sẽ bị phá vỡ. Dòng sản phẩm bắt đầu loại bỏ wafer trước khi bước ăn mòn (etch) được thực hiện. Đó là lý do các phần tử gia nhiệt trong lò chân không phải giữ độ đồng đều nhiệt độ trên toàn buồng, toàn mẻ và liên tục tuần tự. Điểm quan trọng về mặt kỹ thuật Chúng tôi thiết kế các phần tử gia nhiệt này để đảm bảo kỷ luật nhiệt chuẩn cho môi trường fab. Giữ độ đồng đều nhiệt độ trong vùng nóng ở ±0.1°C, để mỗi wafer nhận được ngân sách nhiệt tương đương, qua từng lần chạy. Bạn có được kiểm soát tăng nhiệt nhanh và ổn định cho các profile soft bake và hard bake, cùng khả năng lặp lại giữ chặt biến động trong cùng mẻ. Chúng phù hợp cho phòng sạch Class 1–100, với lượng khí thải thấp và không tạo ra hạt bụi trong điều kiện vận hành. Độ tin cậy phụ thuộc vào thời gian hoạt động liên tục. Thiết kế hướng đến vận hành 24/7 với các khoảng bảo trì dự đoán trước, tránh dừng máy đột ngột. Tại sao điều này quan trọng trong lithography Trong lithography, giai đoạn nung là điểm định hình profile resist. Độ đồng đều cao hơn giúp giảm độ nhám cạnh line-edge của photoresist và mở rộng phạm vi liều lượng. Điều này trực tiếp nâng cao tỷ lệ sản phẩm đạt yêu cầu ngay lần đầu. Khả năng lặp lại chặt chẽ còn rút ngắn thời gian đánh giá và giảm công đoạn làm lại. Hiệu quả hệ thống nhiệt giảm lượng điện năng tiêu thụ trong giai đoạn ổn định, giúp giảm chi phí vận hành mà không làm chậm chu trình sản xuất. Những lưu ý cần nhớ Các phần tử này phù hợp với nền tảng lò chân không tiêu chuẩn, nhưng hình dạng buồng, khối lượng tải và profile nung đều quyết định độ đồng đều cuối cùng. Việc lắp đặt phải phù hợp với khối nhiệt và đặc tính bơm chân không của lò. Cần hiệu chuẩn với bộ gá và quy trình cụ thể của bạn để đảm bảo giữ được phạm vi ±0.1°C.