На производственной площадке профиль температуры в камере PECVD определяет качество получаемой пленки. Если эмиттер начинает давать сбои, это сразу становится заметно – нарушается равномерность толщины пленки, возникают проблемы с ее структурой, а также увеличивается количество частиц в пленке. Мы разработали инфракрасный эмиттер для обогрева в камерах PECVD, который соответствует требованиям современных технологий. Он может заменить импортное оборудование без необходимости изменения всей системы.
Суть решения заключается в использовании коротковолнового инфракрасного излучения, направляемого непосредственно на кварц и подставку для поддержания пластинок. Реакция происходит за доля секунды, поэтому параметры быстро возвращаются в норму после открытия дверцы камеры или изменения параметров процесса. Равномерность температуры на уровне пластинок составляет ±0,1°C, что позволяет сохранять стабильные параметры процесса обработки фоторезиста и обеспечивает точный контроль его параметров.
Устройство пригодно для использования в чистых комнатах классов от 1 до 100. При его работы не образуется никаких частиц; профиль излучения контролируется с точностью до 0,1 мкм. Эффективность устройства обусловлена преобразованием энергии из резистивной формы в излучательную. В наших испытаниях эмиттер работал 24/7 без перерывов.
Преимуществом данного устройства является соблюдение тепловых параметров и повторяемость процесса. Это позволяет достичь высокой степени сопоставимости результатов различных партий продукции, сокращает количество бракованных пластинок, а также позволяет планировать интервалы технического обслуживания. Устройство можно интегрировать в существующие камеры без необходимости полной перенастройки всей системы, что позволяет сохранять стабильность производства.
Установка устройства проста, но температурные параметры и коэффициент излучаемости подставки должны соответствовать характеристикам эмиттера. После установки необходимо провести быструю проверку профиля температуры, чтобы убедиться в его соответствии заданным параметрам. После этого процесс будет стабильным на протяжении всего времени работы.