Secador de wafer com aquecimento uniforme
Na linha de produção, uma variação de 0,1°C durante o processo de secagem é suficiente para causar desvios na qualidade do wafer, gerar resíduos e...
Calor uniforme para wafer IR de 300 mm
Em uma linha de 300mm, soft bake e hard bake não são apenas etapas térmicas—são barreiras de rendimento. Se o seu aquecimento IR não for uniforme,...