Aquecedor de pastilha de silício fotovoltaico
No piso de fábrica, uma linha de litografia que opera 24/7 não permite margem para deriva térmica. Aumentar o soft bake em apenas 2°C fora do alvo...
Calor uniforme para wafer IR de 300 mm
Em uma linha de 300mm, soft bake e hard bake não são apenas etapas térmicas—são barreiras de rendimento. Se o seu aquecimento IR não for uniforme,...