Na linha de produção, a secagem do catalisador não é algo trivial – trata-se de um processo que exige controle térmico preciso. Caso contrário, isso pode afetar negativamente a qualidade do produto final. Os fornos de convecção causam variações de temperatura à superfície do wafer. Isso resulta em uma carga inconsistente de catalisador, além de defeitos na superfície do wafer, que se manifestam como falhas durante a montagem dos componentes.
Criamos uma lâmpada de secagem específica para superar esses desafios: ela utiliza luz infravermelha próxima, sem necessidade de contato com o substrato, e permite um controle preciso da temperatura. A uniformidade da temperatura ao longo da área iluminada fica dentro de ±0,1°C, e a estabilidade da temperatura é mantida mesmo em operação contínua.
O sistema é adequado para uso em salas limpas, desde a classe 1 até a classe 100. Os materiais e selos utilizados são escolhidos para evitar a geração de partículas durante o funcionamento do sistema. Além disso, o sistema funciona de forma consistente, com o mesmo perfil térmico a cada turno de produção.
A razão pela qual esse sistema funciona bem na prática é que ele elimina as variações durante o processo de secagem. Isso permite um aquecimento mais rápido, uma morfologia mais precisa do catalisador e menos necessidades de retrabalho. O consumo de energia diminui, pois a lâmpada aquece apenas o objetivo desejado, e não toda a câmara. A confiabilidade do sistema é garantida para operação 24/7, com intervalos de manutenção previsíveis, evitando falhas aleatórias.
Uma observação importante: a secagem por luz infravermelha próxima requer que a geometria do equipamento e o alinhamento dos refletores sejam precisos, para evitar sombras nas áreas tratadas. Incluímos um kit de validação, com mapas de termopares, perfis de intensidade de luz e hardware de montagem compatível com salas limpas. Assim, sua primeira tentativa de produção já terá resultados consistentes com os esperados.