Pada garis 300mm, soft bake dan hard bake bukan sekadar langkah thermal—ia adalah pintu pengeluaran. Jika haba IR anda tidak seragam, anda akan melihat variasi garis, edge bead, dan sisa yang bertahan selepas pembersihan. Anda tidak boleh memeriksa untuk mengatasinya. Betulkan profil suhu di sumbernya.
Apa yang penting secara teknikal
Kami membina pemanas IR wafer 300mm sekitar inframerah gelombang pendek, dengan reflektor yang direkayasa dan kawalan zon gelung tertutup. Ini memberikan keseragaman di peringkat wafer dalam ±0.1°C. Jalur ketat ini melindungi bajet thermal photoresist merentasi keseluruhan lapisan filem. Zon panas kekal terkawal partikel untuk integrasi bilik bersih Kelas 1–100, dan kami telah mengesahkan tiada penghasilan partikel berbanding metrologi dalam talian. Kebolehulangan telah direka ke dalam reka bentuk—setpoint mengembalikan profil thermal yang sama dari satu larian ke larian yang lain, dari satu lot ke lot yang lain.
Mengapa ia berfungsi dalam pengeluaran
Dalam trek bake litografi, masa operasi adalah mata wangnya. Sistem ini dibina untuk 7×24 dengan tiada waktu henti yang tidak dirancang, menggunakan elemen thermal yang dinilai untuk kitaran tugas hayat panjang dan seni bina thermal yang kekal stabil di bawah beban pengeluaran besar. Pulangannya adalah kawalan CD yang boleh diramal, lebih sedikit lot yang perlu dikerjakan semula, dan tingkap proses yang tidak mengembara, jadi sisa dan masa kelayakan semula berkurang. Penggunaan tenaga dioptimumkan melalui kawalan ramp yang cepat dan kehilangan masa rehat yang minimum, mengekalkan kos operasi rendah tanpa mengorbankan keseragaman.
Apa yang perlu anda rancang
Sistem memerlukan pelan kuasa dan penyejuk khusus yang sepadan dengan beban thermal dan ekzos bilik bersih. Integrasi adalah mudah ke dalam trek standard, tetapi jejak dan kekangan antara muka adalah tetap—atur susun atur alat anda dan akses penyelenggaraan sebelum anda memuktamadkan pelan lantai. Dan jadwalkan pemeriksaan kalibrasi berkala supaya ±0.1°C kekal boleh dijejaki merentasi jenis wafer dan resipi bake.