Nelle stanze di produzione, il profilo termico all’interno della camera PECVD è fondamentale per determinare le caratteristiche del film depositato. Se l’emettitore inizia a funzionare in modo impreciso, se ne accorge subito: lo stress sul film, l’uniformità dello spessore e il numero di particelle presenti nel film ne risentono tutti. Abbiamo progettato il nostro emettitore a infrarossi per soddisfare le esigenze termiche dei processi produttivi moderni; si tratta di un componente che può sostituire facilmente gli attuali dispositivi utilizzati nei processi produttivi.
Il cuore del sistema è costituito da un emettitore a infrarossi a breve lunghezza d’onda, in grado di rilasciare calore direttamente nel quarzo e nel supporto su cui avviene la deposizione del film. La risposta dell’emettitore è istantanea; quindi i valori di regolazione tornano rapidamente alla normalità dopo l’apertura delle porte della camera o dopo modifiche nelle impostazioni di produzione. L’uniformità a livello di wafer è di ±0,1°C, il che garantisce che i parametri di cottura del fotoresisto rimangano entro i limiti stabiliti, proteggendo così il controllo della dimensione del film depositato.
Il dispositivo è compatibile con ambienti puliti di ogni categoria, dalla Classe 1 fino alla Classe 100. Non produce alcuna particella, e i suoi parametri di emissione sono verificabili fino a un livello di precisione di 0,1 μm. L’efficienza del dispositivo deriva dalla conversione dell’energia resistiva in energia radiativa. Nei nostri test, l’emettitore funziona 24/7 senza interruzioni impreviste.
Quello che lo rende ideale per i processi PECVD è il rispetto del bilancio termico e la ripetibilità dei risultati ottenuti. Si ottiene così una maggiore uniformità tra i diversi cicli di produzione, meno scarti di wafer, e periodi di manutenzione ben definiti. Il dispositivo può essere integrato nelle camere esistenti senza richiedere modifiche significative, mantenendo così intatti gli orari di produzione e le procedure operative.
L’installazione è semplice, ma è necessario che il sistema di fissaggio termico e l’emissività del supporto siano in linea con la curva di emissione dell’emettitore stesso. È consigliabile effettuare una rapida verifica del profilo termico dopo l’installazione, per assicurarsi che tutti i parametri siano corretti. Una volta configurato correttamente, il processo rimane stabile, ciclo dopo ciclo.