
En el área de litografía, la uniformidad de la temperatura durante el proceso de secado no es algo opcional; es un factor crucial para obtener un buen rendimiento. Una variación de 1°C en la temperatura del wafer puede afectar negativamente el control de su espesor y provocar defectos en el fotoretardo. Por eso, hemos diseñado nuestros calentadores de infrarrojos para eliminar esa variabilidad desde su origen.
Lo que realmente importa desde el punto de vista técnico: Los elementos de infrarrojo de onda corta transmiten calor de forma rápida y directa al wafer, por lo que la temperatura deseada se alcanza en cuestión de segundos. La uniformidad de temperatura en toda la superficie del wafer se mantiene dentro de un rango de ±0,1°C, y la reproducibilidad está dentro de unos límites muy estrictos. El cuerpo del calentador está diseñado para ser utilizado en salas limpias de clase 1–100, con juntas selladas y sin filamentos expuestos, lo que evita la generación de partículas en el ambiente. La intensidad de calor permanece constante durante más de 5,000 horas, con una variación inferior al 5%.
El procesamiento del fotoretardo no permite errores en el control térmico. Nuestros calentadores de infrarrojos permiten ajustar la temperatura según sea necesario, tanto para procesos de secado suaves como duros. Además, se enfrían rápidamente, lo que reduce el tiempo de ciclo y aumenta la eficiencia. El consumo energético disminuye, ya que se calienta directamente el wafer, y no las paredes de la cámara. Los beneficios incluyen menos lotes que requieren re trabajo, una distribución más precisa del espesor del wafer y un rendimiento consistente de los procesos, hora tras hora.
Qué hay que tener en cuenta durante la instalación: Es necesario adaptar la geometría de la entrada del horno y la alimentación de energía. Proporcionamos diagramas de interfaz y curvas de calibración para facilitar la integración. Asegúrese de contar con conectores eléctricos adecuados para salas limpias, así como de que haya suficiente espacio para manejar el wafer. Los calentadores son compatibles con controladores SECS/GEM. Pero si desea utilizar perfiles de secado basados en recetas en lugar de operar a una temperatura fija, necesitará un controlador dedicado.