In der Fertigungshalle ist die thermische Drift während des Trocknungsprozesses des Photoresists keine theoretische Größe – es handelt sich dabei um einen echten Produktivitätsverlust, den man direkt spüren kann. Wenn die heiße Luft nicht in der Lage ist, die Temperatur der Wafer innerhalb von ±0,1 °C zu halten, ändern sich die kritischen Abmessungen der Wafer – und die Fertigung muss Tag für Tag mit denselben Defekten kämpfen. Wir haben daher ein Klima- und Heizmodul entwickelt, das diese Drift bereits an der Quelle verhindert, indem es die Wärmeabgabe kontrolliert und wiederholbar gestaltet.
Was technisch wichtig ist:
Das Modul nutzt Infrarotstrahlung, um ein gleichmäßiges thermisches Feld zu erzeugen – dadurch erhalten die Wafer in jeder Charge dieselbe Temperatur. In der Praxis bedeutet das Stabilität beim Trocknungsprozess sowie eine hohe Wiederholgenauigkeit, wodurch das Verhalten des Photoresists in allen Chargen konstant bleibt. Das Design ist außerdem kompatibel mit Reinräumen der Klassen 1–100, da es die Erzeugung von Partikeln nahezu auf Null bringt. Zudem ist das Heizprofil so gestaltet, dass es den Anforderungen der modernen Lithografie gerecht wird.
Was Sie vor der Installation wissen müssen:
Bei der Installation muss das Luftstrommuster sowie die Geometrie des betreffenden Lüftungssystems berücksichtigt werden. Nicht passende Leitungen führen dazu, dass das Temperaturfeld beeinflusst wird – dadurch wird die Gleichmäßigkeit zerstört. Es ist außerdem notwendig, die Leistung der Infrarotstrahlung an das spezifische Lastprofil des Reinraums anzupassen. Sobald alles richtig eingestellt ist, liefert das Modul eine stabile Leistung – doch zunächst muss eine richtige mechanische Anpassung erfolgen.